【大.纪.元;8月18日报导】(中央社记者张建中台北18日电)晶圆代工厂联电今天宣布，已完成8吋及12吋晶圆产品水足迹查证，并获颁由立恩威 (DNV)验证公司发出的第3者独立查证声明书。
联电表示，随着水资源匮乏问题逐渐发烧，水资源管理已不仅是环保议题，更是产业营运风险及人类永续生存议题；因此决定继去年完成产品碳足迹盘查后，开始进行产品水足迹盘查。
联电指出，产品水足迹盘查是遵循非营利国际组织Water Footprint Network所发展的企业水足迹会计准则，由DNV进行新竹科学工业园区力行厂区与南科12A厂的产品水足迹盘查。
联电表示，过去在水资源节约方面，主要着重用水效率及回收率的提升，平均各厂制程用水回收率逾85%，新建厂更达87.5%；未来将透过水足迹盘查机制，提升整体供应链水资源效率。
